Standard

NEK IEC 62047-16:2015

Publisert

Rettelser og tillegg kjøpes separat.

Språk
Tjenester

Omfang

IEC 62047-16:2015 specifies the test methods to measure the residual stresses of films with thickness in the range of 0,01 μ to 10 μ in MEMS structures fabricated by wafer curvature or cantilever beam deflection methods.

Dokumentinformasjon

  • Standard fra NEK
  • Publisert:
  • Utgave: 1.0
  • Versjon: 1
  • Varetype: NAT
  • ICS 31.080.99
  • National Committee TC 47/SC 47F

Produktrelasjon

  • Adoptert fra: IEC 62047-16:2015